10月28日，广东省特种设备检测研究院顺德检测院顺利完成LTJ VUVES - 4700i开放式曝光机的验证测试工作，测试成果为推动我国半导体产业关键材料技术升级、实现自主可控提供了坚实技术支撑。

LTJVUVES-4700i开放式曝光机作为半导体制造及光刻胶研发的核心设备，可实现193nm、193nm浸没式和248nm光刻胶晶圆的无图案曝光，为光刻胶性能评估提供关键数据支持。此次验证测试中，顺德检测院聚焦半导体产业关键材料——光刻胶，累计完成了10种ArF光刻胶和2种KrF光刻胶在开放式曝光与浸没式曝光两种主流模式下的全面测试验证。两类曝光模式在光刻胶图案形成中作用各异，对光刻胶感光性、分辨率等性能指标要求也存在显著差异，此次测试充分覆盖了当前光刻胶领域的技术前沿场景。

通过对多品类光刻胶在不同曝光模式下的系统性测试，顺德检测院获取了大量宝贵的一手实验数据，系统剖析了光刻胶在不同曝光参数、环境条件下的性能演化规律。这些数据与规律不仅为光刻胶研发企业优化配方、改进生产工艺提供了科学依据，更助力下游半导体制造企业提升光刻胶应用稳定性，对增强我国半导体材料领域自主创新能力、提升国际市场竞争力具有重要意义。

此次 LTJ VUVES-4700i 开放式曝光机验证测试的成功，是顺德检测院在半导体检测领域长期深耕、厚积薄发的重要成果。近年来，顺德检测院紧扣国家半导体产业战略需求与区域产业发展方向，持续加大科研投入，突破多项技术瓶颈，形成了一系列具有自主知识产权的核心检测技术与服务品牌，为半导体产业高质量发展筑牢技术根基。

未来，顺德检测院将秉持“科学管理、公正把关、文明服务、廉洁高效”的广东特检质量方针，充分发挥技术优势和专业特长，持续为我国半导体产业提供全方位、高质量的检测技术服务。同时，进一步加强与高校、科研机构及企业的合作交流，推动产学研用深度融合，为粤港澳大湾区打造“中国芯”产业高地贡献更多力量、助力我国半导体产业自主可控贡献更多力量。（理化室 供稿）